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2018/12/16 9:53:26打印记事本记算器
氧化镓

氧化镓 [12024-21-4]

  • Gallium oxide
  • CAS:12024-21-4      
  • 分子式:GA2O3
  • 分子量:187.44
  • MDL:MFCD00011020
  • EINECS:234-691-7
  • 别名:三氧化二镓
产品货号商品名称规格包装售价(RMB)促销价(RMB)库存量数量操作备注
H1137192氧化镓 [12024-21-4]99.99%5g107.00
促销价
74.00
>10 A36
H1137191氧化镓 [12024-21-4]99.99%25g477.00
促销价
333.00
>10 A36
H1137187氧化镓 [12024-21-4]99.99%100g1477.00
促销价
1033.00
>10 A36
H1137190氧化镓 [12024-21-4]99.999%5g143.00
促销价
100.00
>10 A36
H1137189氧化镓 [12024-21-4]99.999%25g577.00
促销价
403.00
>10 A36
H1137188氧化镓 [12024-21-4]99.999%100g1770.00
促销价
1239.00
>10 A36
化学性质质量标准危险性质用途及储存
化学性质
外观呈白色结晶粉末,不溶于水和稀酸溶液与碱金属氧化物在高温下反应可生成镓盐。 熔点为:1740℃
质量标准
  

99.99% metals basis:


外观Appearance                            White Powder or Crystalline Powder
X-射线衍射分析X-Ray Diffraction           Conforms to Structure
纯度Purity                                ≥99.99% Based on Trace Metals Impurities
ICP: Confirms Gallium Component           Confirmed
Complexometric EDTA (% Ga)                ≥71.0 %
总痕量金属杂质total metallic impurities   ≤100ppm by ICP Atomic emission
粒度Partical                              ≤80目(98%以上)


99.999% metals basis:


外观Appearance                            White Powder or Crystalline Powder
X-射线衍射分析X-Ray Diffraction           Conforms to Structure
纯度Purity                                ≥99.999% Based on Trace Metals Impurities
ICP: Confirms Gallium Component           Confirmed
Complexometric EDTA (% Ga)                ≥71.0 %
总痕量金属杂质total metallic impurities   ≤10ppm by ICP Atomic emission

  
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