三氟化硼 [7637-07-2]
-
英文名:Boron trifluoride
- 别名:三氟化硼;三氟化硼(12%溶于甲醇);电子工业用三氟化硼;氟化硼, 99+%;三氟化硼, 99+%;三氟化硼-1-丁醇 溶液;三氟化硼丁醇 溶液
- CAS号:7637-07-2 分子式:BF3 分子量:67.81
T290706-1ml 三氟化硼 [7637-07-2] AR(10-20%) 1g 1865.00 促销价:1119.00
T290705-(1mL×10) 三氟化硼 [7637-07-2] Boron Trifluoride - Methanol Reagent (10-20%) [for Esterification] (1mL×10) 1333.00 促销价:933.10
T290705-(1mL×10) 三氟化硼 [7637-07-2] Boron Trifluoride - Methanol Reagent (10-20%) [for Esterification] (1mL×10) 1333.00 促销价:933.10
订货编号 | 商品名称 | 规格 | 包装 | 单价 | 促销价 | 会员价 | 数量 |
T290706-1ml | 三氟化硼 [7637-07-2] | AR(10-20%) | 1g | 1865.00 | 1119.00 | 登录可见 |
T290706-1ml 三氟化硼 [7637-07-2] AR(10-20%) 1g 1865.00 促销价:1119.00
|
T290705-(1mL×10) | 三氟化硼 [7637-07-2] | Boron Trifluoride - Methanol Reagent (10-20%) [for Esterification] | (1mL×10) | 1333.00 | 933.10 | 登录可见 |
T290705-(1mL×10) 三氟化硼 [7637-07-2] Boron Trifluoride - Methanol Reagent (10-20%) [for Esterification] (1mL×10) 1333.00 促销价:933.10
|
化学性质
三氟化硼 性质
熔点 −127 °C(lit.)
沸点 −100 °C(lit.)
密度 0.90 g/mL at 20 °C
蒸气密度 2.38 (21 °C, vs air)
折射率 n20/D 1.38
闪点 4°C
储存条件 2-8°C
水溶解性 MAY DECOMPOSE
敏感性 Moisture Sensitive
Merck 14,1349
CAS 数据库 7637-07-2(CAS DataBase Reference)
NIST化学物质信息 Borane, trifluoro-(7637-07-2)
熔点 −127 °C(lit.)
沸点 −100 °C(lit.)
密度 0.90 g/mL at 20 °C
蒸气密度 2.38 (21 °C, vs air)
折射率 n20/D 1.38
闪点 4°C
储存条件 2-8°C
水溶解性 MAY DECOMPOSE
敏感性 Moisture Sensitive
Merck 14,1349
CAS 数据库 7637-07-2(CAS DataBase Reference)
NIST化学物质信息 Borane, trifluoro-(7637-07-2)
危险性质
安全信息
危险品标志 T+,C,T,F
危险类别码 14-26-35-39/23/24/25-24/25-11-67-41-10-37-22
安全说明 9-26-28-36/37/39-45-28A-16
危险品运输编号 UN 3286 3/PG 2
WGK Germany 3
RTECS号 ED2275000
F 21
Hazard Note Corrosive/Toxic
HazardClass 2.3
毒害物质数据 7637-07-2(Hazardous Substances Data)
危险品标志 T+,C,T,F
危险类别码 14-26-35-39/23/24/25-24/25-11-67-41-10-37-22
安全说明 9-26-28-36/37/39-45-28A-16
危险品运输编号 UN 3286 3/PG 2
WGK Germany 3
RTECS号 ED2275000
F 21
Hazard Note Corrosive/Toxic
HazardClass 2.3
毒害物质数据 7637-07-2(Hazardous Substances Data)
用途及存储
用途 常用作缩合、离子聚合、异构化等反应的催化剂,还是制备四氟硼酸盐的原料
用途 主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。
用途 主要用作有机反应催化剂,如酯化、烷基化、聚合、异构化、磺化、硝化等。铸镁及合金时的防氧化剂。是制备卤化硼、元素硼、硼烷、硼氢化钠等的主要原料。还用于电子工业等密封干燥保存。
用途 主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。
用途 主要用作有机反应催化剂,如酯化、烷基化、聚合、异构化、磺化、硝化等。铸镁及合金时的防氧化剂。是制备卤化硼、元素硼、硼烷、硼氢化钠等的主要原料。还用于电子工业等密封干燥保存。